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TFT-Flüssigkristallanzeigen zeichnen sich durch große Fläche, hohe Integration, starke Funktionalität, niedrige Kosten, flexible Technologie und breite Anwendungsbereiche aus.

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Im Folgenden werden wir die verschiedenen Eigenschaften des TFT-LCD-Bildschirms detailliert vorstellen:

(1) Großflächig: Die erste Generation großflächiger TFTs mit Glassubstrat (3000 mm x 400 mm) kam Anfang der 1990er Jahre auf den Markt, die Fläche des Glassubstrats wurde in der ersten Hälfte des Jahres 2000 auf 6800 mm x 880 mm erweitert, und vor kurzem wurde auch das 950 mm x 1200 mm große Glassubstrat in Betrieb genommen.

(2) Hohe Integration: Der LCD-Projektions-TFT-Displaychip mit 1,3 Zoll Auflösung bietet XGA-Daten mit Millionen von Pixeln. Die Schichtdicke des 16,1-Zoll-TFT-Chips aus amorphem Silizium mit SXGA-Auflösung (1280 x 1024) beträgt lediglich 50 Nanometer. Die technische Integration von TABONGLAS und SYSTEMONGLASS, die Anforderungen an Ausrüstung und Versorgung sowie die technische Komplexität sind höher als bei herkömmlichen LSI-Technologien.

(3) Vollständige Funktionen: Das TFT-Flüssigkristalldisplay wurde ursprünglich als Matrix-Adresswahlschaltung verwendet, wodurch die Eigenschaften des Flüssigkristall-Lichtventils verbessert wurden. Für hochauflösende Darstellungen kann der LCD-Bildschirm durch Anpassen der Spannung im Anzeigebereich von 0–6 V (typischerweise 0,2–4 V) und korrekte Ansteuerung des Zielelements eine hochwertige und hochauflösende Anzeige erzielen.

(4) Niedrige Kosten: Glassubstrate und Kunststoffsubstrate lösen grundsätzlich das Kostenproblem großflächiger integrierter Halbleiterschaltungen und eröffnen einen breiten Anwendungsraum für die Anwendung großflächiger integrierter Halbleiterschaltungen.

(5) Prozessflexibilität: Neben Sputtern und Laserglühen ermöglicht die chemische Gasphasenabscheidung (CVD) mit MCVD die Herstellung von amorphen, Mehrkomponenten- und Einzelkomponentenschichten, zusätzlich zu traditionellen Schichtbildungsverfahren wie der molekularen chemischen Gasphasenabscheidung. Es können nicht nur Siliziumschichten, sondern auch andere Halbleiterschichten vom Typ I-VI und Tetra-V hergestellt werden.

In allgemeinen Anwendungsbereichen ist der auf TFT-Technologie basierende LCD-Flüssigkristallbildschirm eine tragende Säule der Informationsgesellschaft und kann auch für die rasante Entwicklung von TFT-OLED-Flachbildschirmen genutzt werden.


Veröffentlichungsdatum: 10. August 2022